一. 光刻胶组成

光刻是半导体制造核心工艺，目的是将印制于掩膜板上的电路图案复制到衬底晶圆上，包括涂胶、曝光、显影等工序。

其中，光刻胶为光刻工艺的图形转移介质，主要组成：

（1）树脂 ：作为成膜剂粘合光刻胶各材料，决定光刻胶的机械性能和化学稳定性。

（2）光引发剂：作为光敏成分，决定光刻胶感光度、分辨率等关键性能。

（3）溶剂 ：溶解和分散光刻胶，实现均匀涂覆。

（4）添加剂：如显影抑制剂、增感剂，优化光刻胶部分性能。

二. 光引发剂概览

光引发剂是一类在紫外光（UV）、可见光照射下迅速产生自由基或阳离子，从而引发聚合固化反应的功能性化学物质。

核心作用：将光能转化为化学能，驱动光敏树脂等材料快速固化，广泛应用于光刻胶、UV涂料、UV油墨、胶粘剂等光固化材料。

2.1 分类

（1）自由基型：快速固化，应用最广；常见类型包括裂解型、夺氢型，主要用于涂料、油墨、胶粘剂领域。

（2）阳离子型：固化收缩小、价格高；常见类型如光致产酸剂（PAG），主要用于半导体光刻胶等高端领域。

2.2 应用领域

（1）光刻胶：用于半导体、LCD、PCB光刻胶。

（2）UV涂料：用于木器漆、金属漆、塑料漆、汽车漆、光纤漆。

（3）UV油墨：用于包装印刷、标签、标牌、标识。

（4）3D打印：用于光敏树脂。

（5）胶粘剂：用于光学胶、层压胶、封装胶。

三. 光引发剂市场格局

我国是全球光引发剂最大生产国，且行业产能不断向头部企业集中。

产能前五：久日新材（2.2万吨）、强力新材（1.6万吨）、沃凯珑（1.3万吨）、IGM（1.2万吨）、扬帆新材（0.8万吨）。

半导体光刻胶用PAG领域，日美厂商垄断KrF/ArF/EUV胶高端市场，包括东京应化、JSR、信越化学、住友化学、杜邦。

高端领域国产替代头部厂商：威迈芯材、徐州博康。

强力新材：光引发剂年产能1.6万吨，产品覆盖PCB、LCD、半导体光刻胶，半导体PAG客户包括住友化学、JSR、三星等全球知名厂商。

久日新材：光引发剂年产能2.2万吨国内第一，KrF胶用PAG供货上海新阳、晶瑞电材，光刻胶供货中芯国际。

华懋科技：持有徐州博康23.2%股份，徐州博康布局光酸、树脂、光刻胶，客户包括Intel、JSR等，ArF胶PAG通过SK海力士验证。