光刻胶高壁垒、高价值量的半导体核心材料

光刻胶是半导体生产的关键材料，帮助将掩膜版上的图形转移到衬底表面，其分辨率直接决定了特征尺寸的大小，其质量和性能直接影响制造产线的良率，高壁垒和高价值量是典型特征，高端的KrF光刻胶价格在200万元/吨以上。

大陆光刻胶市场规模增长迅速，美日垄断市场

据国际半导体产业协会（SEMI）统计，2021 年全球半导体光刻胶市场规模达 24.71 亿美元，同比增长 19.49%，其中中国大陆市场依旧保持着最快的增速，达到 4.93 亿美元，较上年同期增长 43.69%。与极高的增长速度相比，光刻胶的国产化率极低，日美企业占据约70%份额，尤其依赖日本进口。我国中高端胶如KrF光刻胶国产化率不及5%，ArF几乎空白，若此后国际形势再度产生变化，或将对国内半导体供应链安全造成较大的影响，中高端光刻胶国产替代迫在眉睫。

近年来国内各大光刻胶厂商也已陆续取得突破，彤程新材KrF光刻胶持续放量，上海新工厂部分产线已试生产；华懋科技子公司徐州博康多款ArF光刻胶已通过客户验证，邳州工厂产能即将投放；晶瑞电材眉山光刻胶产线已通车，客户拓展顺利。另外，上海新阳、南大光电等企业也有望持续受益。

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