一、 事件

       荷兰光刻机巨头阿斯麦全球高级副总裁、中国区总裁沈波在进博会期间接受专访时表示，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%，对明年在中国的业务也非常的乐观。

     国产高端光刻胶快速突，11月06日，彤程新材发布《关于光刻胶项目进展情况》公告，其中重点指出（1）公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。（2）公司生产EBR溶剂已达到G4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证。

二、简介

     光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

     光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

     一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。

    光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。

三、 行业分析

    近期美国联合日本、荷兰对中国芯片施加新的设备出口管制。目前全球半导体设备基本由美日荷三国垄断，从各国优势环节来看，        1）美国在薄膜沉积、离子注入、量测领域占据垄断地位。美企应用材料在PVD、CMP、离子注入全球市占率分别为86%、68%、64%，拉姆研究在刻蚀、ECP市占率分别为46%、78%，科天在量测领域市占率54%。

    2）日本在涂胶显影、清洗设备占据优势。东京电子涂胶市占率89%、迪恩士清洗设备市占率40%。

    3）荷兰光刻机是绝对龙头，原子层沉积处于领先地位。ASML占据全球96%市场份额，ASMI的ALD设备市占率45%。中美科技脱钩倒逼半导体设备及零部件国产化提速，国产化率提升有望超预期。

    政策、资金齐发力，国产光刻胶蒸蒸日上。随着中国半导体产业的发展和制造工艺技术节点的不断缩小，G/I线光刻胶增速放缓，KrF和ArF光刻胶市场需求量和增速加快。在政策上，2019年，光刻胶入选《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019版)》，、发改委等部门相继出台文件，为光刻胶技术突破、产业发展提供了有力的政策引导和保障。同时在2022年，为鼓励光刻胶产业发展、突破产业瓶颈，中国出台了多项政策支持半导体行业发展。据势银（TrendBank）截止2022年8月调研数据显示，2019-2022年光刻胶企业已披露的半导体产业光刻胶项目总投资额达到94.13亿。从年份看投资金额逐年升高。势银（Trendbank）预测2022至2023年将是光刻胶企业投资高峰年。

    光刻气体是光刻工艺所需重要材料，需求有望企稳回升。华特气体、凯美特气是国内已经取得ASML认证的两家光刻气供应商根据公告，华特气体光刻气通过了ASML和GIGAPHOTON的认证。公司已实现对国内8寸以上集成电路制造厂商超过90%的客户覆盖率。根据公告，2023年2月，凯美特气光刻气产品通过Cymer公司的合格供应商认证，有利于提高在光刻气领域内的认可度和知名度。

在光刻机核心技术领域有所突破，产品直接或间接进入ASML、Nikon、Cannon及上海微电子等供应链厂商。如福晶科技、茂莱光学、科益虹源(未上市)、苏大维格等。