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光刻机:科技自主急需突破环节
战无不胜66 / 07月18日 08:46 发布
#1、7月16日《日经亚洲》(nikkei asia)发表题为《Can China build its own ASML》,我们总结了主要核心要点,不涉及个人解读:
① SMIC、CXMT、YMTC等头部晶圆厂持续扩充先进制程产能,同时还要实现刻蚀、薄膜沉积、量测等环节半导体设备完全国产替代。
② 除了GKJ外,中国大陆半导体设备取得巨大进步,北方华创、中微、拓荆等公司收入近几年体量大幅提升,不仅参与国内竞争,参与全球竞争正在成为可能。
③ GKJ作为人类社会最复杂的机器,是目前中国大陆半导体设备尚未突破的环节,短期囤货争GKJ取时间窗口,整合资源全面推进GKJ研发力求实现突破。
④ 目前已建立GKJ研发体系:主要支持者包括HW、政府(GWY、北京、上海、深圳政府)、研究所(长光所、上海光机所);整机制造企业包括宇量昇、新凯来、上海微等;光学系统供应商包括长光集智、科益虹源、国望光学、福光股份、茂莱光学等;真空镀膜供应商:汇成真空等。
⑤ GKJ将是大基金三期重点投资领域。
#2、我们反复强调2025年的GKJ产业正在发生质变,浸没式GKJ量产机台上产线验证是重要信号,25Q1头部存储和逻辑客户均有发机,初步测试效果反馈良好。近期我们跟踪了解到,已向某逻辑客户交付第二台国产GKJ,表明首台测试结果良好,且预计相关配套track等同步国产化, GKJ产业持续积极变化,参考半导体设备验证周期,GKJ产业的未来1-2年的发展是确定的
华西机械投资建议:重点推荐#茂莱、华辰、福光、汇成、波长、中旗等。