大主题！数字货币VS大基金二期！

逻辑驱动 / 2019-09-24 17:15 发布

近日，中国证券报记者从多个独立信源获悉，国家集成电路产业投资基金（二期）（简称“大基金二期”）的募资工作已经完成，规模在2000亿元左右。部分公司正在跟国家大基金接洽，商讨二期投资方式。

据报道，在大基金二期投向上，“不同”之处的一个表现是大基金二期会投半导体下游的终端应用企业；二是认为重点投向可能更向设计材料设备等倾斜，同时增加下游应用；三是认为投资会集中在应用上，这对整个产业链会有带动。

紫外曝光机，也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是印刷线路板（PCB）制作工艺中的重要设备。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

目前，光刻机的主要研制厂商有荷兰的ASML公司和日本的尼康、佳能，它们几乎垄断了全球的光刻机市场。我国是集成电路的消费大国，也是生产大国，但生产的主要是低端集成电路。近年来，也引进了一些国外的集成电路制造商，比如中芯国际、台积电、宏力半导体等，但仍然无法得到光刻机的相关关键技术。为推动我国集成电路产业的跨越发展，也为推进我国工业化和信息化进程，国家在2006年发布的《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020）》中将“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”明确为重大专项。通过这一专项的实施，已经取得了一些成果。